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X 射线实时成像与图像处理系统
本系统是基于计算机图像处理技术的 X 射线实时成像检测系统,对工业生产中关键部件实现无损检测。该系统分为动态检测和静态处理两大部分。在动态检测中,系统可以根据图像检测算法,对图像中的缺陷进行实时检测和评判。在静态处理中,系统除了可以进行图像的边缘检测,长度、面积的自动测量,灰度直方图统计等操作外,更为重要的是可以根据内置的算法及标准,对缺陷的性质和等级进行自动评定。该系统具有成像质量高、测量精确、操作简便、稳定性好的优点。
大连理工大学 2021-04-13
植物表型成像分析系统(植物自动传送版)
产品详细介绍 PlantScreen植物表型成像分析系统(植物自动传送版)   PlantScreen植物表型成像系统由捷克PSI公司研制生产,整合了LED植物智能培养、自动化控制系统、叶绿素荧光成像测量分析、植物热成像分析、植物近红外成像分析、植物高光谱分析、自动条码识别管理、RGB真彩3D成像、自动称重与浇灌系统等多项先进技术,以最优化的方式实现大量植物样品——从拟南芥、玉米到各种其它植物的全方位生理生态与形态结构成像分析,用于高通量植物表型成像分析测量、植物胁迫响应成像分析测量、植物生长分析测量、生态毒理学研究、性状识别及植物生理生态分析研究等。作为全球第一家研制生产植物叶绿素荧光成像系统的厂家,PSI公司在植物表型成像分析领域处于全球的技术前列,大面积叶绿素荧光成像分析功能使PlantScreen成为植物表型分析与功能成像分析的最为先进的仪器设备,使植物生长、胁迫响应等测量参数达100多个。 左图为整套PlantScreen系统,中图为成像室,右图为成像室中的玉米 PlantScreen系统包括如下成像分析功能:   1. 叶绿素荧光成像分析:单幅成像面积35x35cm,成像测量参数包括Fo, Fm, Fv, Fo’, Fm’, Fv’, Ft, Fv/Fm, Fv’/Fm’, Phi_PSII, NPQ, qN, qP, Rfd等几十个叶绿素荧光参数 2. RGB成像分析:成像测量参数包括: 1) 叶面积(Leaf Area: Useful for monitoring growth rate) 2) 植物紧实度/紧密度(Solidity/Compactness. Ratio between the area covered by the plant’s convex hull and the area covered by the actual plant)   3) 叶片周长(Leaf Perimeter: Particularly useful for the basic leaf shape and width evaluation (combined with leaf area)) 4) 偏心率(Eccentricity: Plant shape estimation, scalar number, eccentricity of the ellipse with same second moments as the plant (0...circle, 1...line segment)) 5) 叶圆度(Roundness: Based on evaluating the ratio between leaf area and perimeter. Gives information about leaf roundness) 6) 叶宽指数(Medium Leaf Width Index: Leaf area proportional to the plant skeleton (i.e. reduction of the leaf to line segment)) 7) 叶片细长度SOL (Slenderness of Leaves) 8) 植物圆直径(Circle Diameter. Diameter of a circle with the same area as the plant) 9) 凸包面积(Convex Hull Area. Useful for compactness evaluation)   10) 植物质心(Centroid. Center of the plant mass position (particularly useful for the eccentricity evaluation)) 11) 节间距(Internodal Distances) 12) 生长高度(Growth Height) 13) 植物三维最大高度和宽度(Maximum Height and Width of Plant in 3 Dimensions) 14) 相对生长速率(Relative growth rate) 15) 叶倾角(Leaf Angle) 16) 节叶片数量(Leaf Number at Nodes) 17) 其它参数如用于植物适合度估算的颜色定量分级、绿度指数(Other parameters such as color segmentation for plant fitness evaluation, greening index and others) 3. 高光谱成像分析(选配),可成像并分析如下参数: 1) 归一化指数(Normalized Difference Vegetation Index (NDVI)) 2) 简单比值指数(Simple Ratio Index, Equation: SR = RNIR / RRED) 3) 改进的叶绿素吸收反射指数(Modified Chlorophyll Absorption in Reflectance Index (MCARI1), ?Equation: MCARI1 = 1.2 * [2.5 * (R790- R670) - 1.3 * (R790- R550)]) 4) 最优化土壤调整植被指数(Optimized Soil-Adjusted Vegetation Index (OSAVI)?, Equation: OSAVI = (1 + 0.16) * (R790- R670) / (R790- R670 + 0.16)) 5) 绿度指数(Greenness Index (G), Equation: G = R554 / R677) 6) 改进的叶绿素吸收反射指数(Modified Chlorophyll Absorption in Reflectance Index (MCARI), ?Equation: MCARI = [(R700- R670) - 0.2 * (R700- R550)] * (R700/ R670)) 7) 转换类胡罗卜素指数(Transformed CAR Index (TCARI)?, Equation: TSARI = 3 * [(R700- R670) - 0.2 * (R700- R550) * (R700/ R670)]) 8) 三角植被指数(Triangular Vegetation Index (TVI)?, ?Equation: TVI = 0.5 * [120 * (R750- R550) - 200 * (R670- R550)]) 9) ZMI指数(Zarco-Tejada & Miller Index (ZMI), Equation: ZMI = R750 / R710) 10) 简单比值色素指数(Simple Ratio Pigment Index (SRPI), Equation: SRPI = R430 / R680) 11) 归一化脱镁作用指数(Normalized Phaeophytinization Index (NPQI), Equation: NPQI = (R415- R435) / (R415+ R435)) 12) 光化学植被反射指数(Photochemical Reflectance Index (PRI), Equation: PRI = (R531- R570) / (R531+ R570)) 13) 归一化叶绿素指数(Normalized Pigment Chlorophyll Index (NPCI), NPCI = (R680- R430) / (R680+ R430)) 14) Carter指数(Carter Indices?, Equation: Ctr1 = R695 / R420; Ctr2 = R695 / R760) 15) Lichtenthaler指数(Lichtenthaler Indices?, Equation: Lic1 = (R790 - R680) / (R790 + R680); Lic2 = R440 / R690) 16) SIPI指数(Structure Intensive Pigment Index (SIPI), Equation: SIPI = (R790- R450) / (R790+ R650)) 17) Gitelson-Merzlyak指数(Gitelson and Merzlyak Indices?, ?Equation: GM1 = R750/ R550; GM2 = R750/ R700)   4. 热成像分析(选配):用于成像分析植物在光辐射情况下的二维发热分布,良好的散热可以使植物耐受较长时间的高光辐射或低水条件(干旱) 5. 近红外成像分析(选配):用于观测分析植物的水分状态及其在不同组织间的分布变异,处于良好浇灌状态的植物表现出对近红外光谱的高吸收性,而处于干旱状态的植物则表现出对近红外光谱的高反射性,通过分析软件可以监测分析从干旱胁迫到再浇灌过程中的整个过程动态及植物对干旱胁迫的响应和水分利用效率,并形成假彩图像,可以与植物的形态指数及叶绿素荧光指数进行相关分析研究。   系统配置与工作原理:   整套系统由自动化植物传送系统、光适应室、RGB成像、FluorCam叶绿素荧光成像、高光谱成像、植物热成像、植物近红外成像、自动浇灌施肥与称重系统、植物标识系统等组成,光适应室内的植物可由传送带传送到成像室进行成像分析等。   技术指标:   1. 自动装载与卸载植物样品,通过条形码或RFID标签识别跟踪样品 2. 光适应室:用于光照适应或植物培养,LED光源光照强度达1000μmol/m2.s,无热效应,强度0-100%可调,可通过实验程序预设光照周期变化,可选配通用型或专用型如水稻生长观测室等,还可选配三维扫瞄成像分析功能(包括XYZ三维扫瞄成像系统和软件) 3. 标配托盘架30x30cm,用于安放盆栽植物或可以盛放多个小花盆的托盘 4. 自动传送系统由光适应室到成像室形成一个环形传送通道,传送带采用具变速器的三相异步马达,200-1000W,传送带宽320mm,负载力130kg,速度9m/min 5. 移动控制系统中央处理单元:CJ2M-CPU33;数字I/O:最大2560点;PLC通讯:通过以太网100Mb/s高端PC;OMRON MECHATROLINK-II 最大16轴精确定位 6. 植物成像测量室:150cm(长)x150cm(宽)x220cm(高),与环境光隔离(light-isolated),快速自动开启关闭门,开启关闭周期小于3秒,传送带入口具光幕传感系统、条码识别器和RFID读取器 7. RFID读取器辨识距离:2-20cm;通讯:RS485;条码识别器可读取1维、2维和QR码,具LED光源便于弱光下辨识,RS485通讯 8. F3EM2光幕系统,精确测量植物高度和宽度以便进入成像测量室后摄像头自动精确定位,测量范围150cm,分辨率5mm 9. 叶绿素荧光成像:包括光隔离成像室、自动开启与关闭门、传送带、PLC控制自动上下移动聚焦系统、4个LED光源板、8位绿波轮等,单幅成像面积35x35cm,测量光橙色620nm,橙色和白色双波长光化学光,饱和光闪为白色或蓝色 10. 自动灌溉与称重,可同时对5个植物种植盆进行浇灌和称重,精确度±1g;称重后精确浇灌,可通过实验程序(protocol)预设浇灌过程(regime)或干旱胁迫状态,还可选配营养供给系统随浇灌定量供给植物营养(如氮肥等);称重前自动零校准,还可通过已知重量(如砝码)物品自动进行再校准;防护级别:IP66 11. 称重系统由4个称重单元组成,安全承载限:150% Ln;温度补偿:-10-40°C,标配测量范围7kg,可选配10kg、15kg或20kg 12. RGB成像:顶部和侧面三维成像(3个摄像头),每个摄像头各自拥有独立的控制面盘以设置曝光时间、增益、白平衡等,通过控制面盘的快照键可即时拍照并显示分辨率等信息,还可通过自动模式自动成像并存储至数据库,每次扫瞄成像时间小于10秒 13. RGB成像系统包括成像室(光隔离)、传送带及位置传感器、3个摄像头、光源及成像分析软件,标配成像范围150cm(长)x150cm(宽)x150cm(高),LED冷白光源(不对植物产生热效应) 14. 标配USB以太网摄像头,有效像素4008x2672,像素大小9.0μm,比特分辨率12比特,光量子效率:蓝光峰值465nm,绿色峰值540nm,红色峰值610nm;28mm光学镜头,口径43.2mm,光圈范围2.8-F16 15. NIR近红外成像单元:可成像采集1450-1600nm水吸收波段,以反映植物水分状况,在供水充沛情况下表现出高NIR吸收值,干旱胁迫情况下则表现出高NIR反射,NIR假彩色成像可以通过软件反映和分析植物水分状况 16. 高光谱成像单元包括光隔离成像测量室、自动开启关闭门、传送带、PLC控制自动移动聚焦镜头包括SWIR和VNIR镜头、光源、成像分析系统等,VNIR镜头波段380nm-1000nm,光圈F/0.2,缝隙宽度25μm,缝隙长度18mm,帧速12-236 fps;SWIR镜头波段900-2500nm,光圈F/0.2,缝隙宽度25μm,缝隙长度18mm,帧速60或100 fps,视野150x100cm 17. 用户可通过实验程序选择SWIR成像、VNIR成像或两个镜头全波段成像,每个镜头成像时间分别为15秒 18. 热成像单元:分辨率640x480像素,温度范围20-120°C,灵敏度NETD<0.05°C@30°C/50mK,成像面积可达150x150cm 19. 可选配人工气候室,植物生长面积9.5m2,生长高度2.0m,温度稳定性±1°C,430nm-730nm白色和IR LED 光源,1000μmol/m2/s(距离植物100cm高度的光强),可预设自动光照周期动态, 20. 系统控制与数据采集分析系统: Ø 用户友好的图形界面 Ø 用户定义、可编辑自动测量程序(protocols) Ø MySQL数据库管理系统,可以处理拥有上千万条记录的大型数据库,支持多种存储引擎,相关数据自动存储于数据库中的不同表中 Ø 植物编码注册功能:包括植物识别码、所在托盘的识别码等存储在数据库中,测量时自动提取自动读取条形码或RFID标签 Ø 触摸屏操作界面,在线显示植物托盘数量、光线强度、分析测量状态及结果等,轻松通过软件完全控制所有的机械部件和成像工作站 Ø 可用默认程序进行所有测量,也可通过开发工具创建自定义的工作过程,或者手动操作LED光源开启或关闭、RGB扫面成像、叶绿素荧光成像、称重及浇灌等 Ø 实验程序(Protocols)具备起始键、终止键、暂停键 Ø 可根据实验需求自动控制植物样品的移动和单一成像站的激活 Ø 可提供3个相机视角的RGB数字生长分析,包含阈值分析和颜色分析 Ø 对于叶绿素荧光成像图片,软件可批量进行淬灭参数分析,包含了在背景去除图像上用户感兴趣区域和像素值的平均。分析数据以原始图像和分析数据的形式存储在数据库中。 Ø 对FIR热成像图,16位图可直接导出到MATLAB或通过软件生成温度分布的假彩图像。   部分用户:   1. 国际水稻研究所(菲律宾)The International Rice Research Institute, Los Banos Philippines  2. 澳大利亚联邦科学与工业研究组织植物表型组学中心The CSIRO Plant Phenomics Center, Canberra, Australia  3. 澳大利亚国立大学The Australian National University, Canberra. Australia  4. 孟山都公司(美国)Monsanto Corporation, St. Louis, USA.  5. 杜邦先锋国际良种公司Pioneer-Dupont, Des Moines, Iowa  6. 巴斯夫公司Metanomics(柏林)Metanomics (BASF), Berlin, GDR  7. 巴斯夫公司CropDesign(比利时)CropDesign (BASF), Nevele, Belgium  8. 美国合成基因公司Synthetic Genomics, La Jolla, USA  9. Palacky 大学Palacky University Olomouc, Czech Republic 10. Masaryk 大学Masaryk University Brno, Czech Republic   产地:欧洲    
北京易科泰生态技术有限公司 2021-08-23
JP-K600化学发光成像系统
使用范围介绍: 化学发光成像系统适用于化学发光、多色荧光检测与普通凝胶检测,选用了高分辨率低照度进口制冷CCD,并完美结合大光圈电动镜头,可捕获到极微弱的荧光和化学发光信号。化学发光成像系统JP-K600深度制冷的CCD,较大程度的消除了背景噪声,超大光圈镜头,收集微弱信号。化学发光成像系统JP-600可选的多种荧光光源以及多位电动滤光片轮,满足核酸成像、ECL成像等多种实验需求。 主要应用范围: 核酸检测:各种荧光染料,如Ethidium bromide,SYBRTMGold, SYBRTMGreen, SYBRTMSafe, GelStarTM, Fluorescein, Texas Red标记的DNA/RNA检测。 蛋白检测:考马斯亮蓝胶,银染胶,以及荧光染料如SyproTMRed, SyproTMOrange,Pro-Q Diamond, Deep Purple 标记胶/膜/芯片等。 印迹膜:Western Lightning、ECL、ECLplus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、LumiGlo、Cy2、Cy3、Cy5、FITC、AlexaDyes、DyLight dyes、ProQDiamond、ProQ Emerald 300、ProQEmerald 488、IR Dye 680 等。 JP-K600化学发光成像系统产品介绍: 集凝胶成像、化学发光和生物发光成像一体的全自动多功能成像系统; 用于凝胶和膜中蛋白质与DNA样品的数字图像的检测和分析;; JP-K600化学发光成像系统产品特色: 采用最新一代冷却CCD相机,605万像素(可选配890万像素); 配备F/0.95大光圈定焦镜头,(可选配F/0.8镜头)具有超高的检测灵敏度。 超光密闭的暗箱设计为化学发光和生物发光成像提供了最适和的环境   防散射样品台使光散射产生的影响降低到最小  暗箱配有顶置白光光源,具有顶部白光灯 标配抽屉式双位载物对焦平台,可兼容拍摄各种厚度的样品,自动对焦升降平台 可选配电脑控制自动定位样品载物升降平台,并可通过电脑进行无级定位控制 用户可自行设定定时自动关闭光源时间(0-60分钟)   JP-K600化学发光成像系统技术参数: CCD芯片 Sony ICX695,4/3英寸,2750×2200  (605万像素)    动态范围 4.8OD.16bit灰阶(0-65535) 像数尺寸 5.4um×5.4um 像素合并 1×1,2×2,3×3,4×4 ,6×6,8×8 CCD温度 -45℃"绝对温度,相对于温室-65℃ 感光效率 High QE: >75% 镜头 F/0.95定焦镜头 顶置白光光源 极高的均匀性对低亮度的图像进行增强 灵敏度 最低可检测0.01ngEB染色体DNA 暗电流 <0.0005e-/pixelc. 激发光源 300nm透射UV  254、365nm反射UV 透射台 超亮紫外透射台,面积200×250mm 滤光片轮 5位滤光片轮.自动控制.标配F590干涉滤色镜
上海金鹏分析仪器有限公司 2021-12-09
GEOSAR地面成像验证系统与卫星信号处理仿真系统(技术)
成果简介:GEOSAR卫星运行在高轨道,长合成孔径时间使得目标回波具有距离徙动量大、空变性剧烈的特点,因而成像处理难度大。同时电离层对信号传播的影响也是影响卫星成像性能的重要因素。 GEOSAR地面成像验证系统利用导航卫星作为照射源、在地面配置多通道接收机分别接收直达波和回波信号,其中直达波信号用于实现卫星与接收机间的时频同步和分析电离层的影响,回波信号可用于实现成像处理。通过研究此模式下回波信号特性和成像算法,因此利用该验证体制可实现对GEOSAR成像机理的等效地面成像验证;同时,
北京理工大学 2021-04-14
肺解剖模型XM-517
XM-517肺解剖模型   XM-517肺解剖模型可拆分为4部件,显示肺的外形和额状切面的解剖结构,肺模型外形显示膈面、肋面及纵隔面,纵隔面显示肺门及肺根,左肺的冠状面显示肺内支气管与肺动、静脉的毗邻位置关系,右肺的冠状面显示肺内支气管与肺动静的断面。 尺寸:自然大 材质:PVC材料
上海欣曼科教设备有限公司 2021-08-23
XM-517肺解剖模型
XM-517肺解剖模型   XM-517肺解剖模型可拆分为4部件,显示肺的外形和额状切面的解剖结构,肺模型外形显示膈面、肋面及纵隔面,纵隔面显示肺门及肺根,左肺的冠状面显示肺内支气管与肺动、静脉的毗邻位置关系,右肺的冠状面显示肺内支气管与肺动静的断面。 尺寸:自然大 材质:PVC材料
上海欣曼科教设备有限公司 2021-08-23
肺小叶连肺泡放大模型
XM-519A肺小叶连肺泡放大模型   XM-519A肺小叶连肺泡放大模型由2部件组成,由肺小叶放大和肺泡囊、肺泡管、弹性纤维等肺泡组成,显示终末细支气管、呼吸性细支气管、肺泡上皮等结构以及肺泡、肺泡上皮、肺泡囊、肺泡管、肺泡毛细血管等结构。 尺寸:放大 材质:PVC材料
上海欣曼科教设备有限公司 2021-08-23
病理肺模型(肺部病变模型)
XM-517D病理肺模型   XM-517D病理肺模型(肺部病变模型)显示由微生物感染引起的肺系统疾病(肺脓肿、肺炎和结核),在模型的表面是黑色显示吸烟的可见的影响,肿瘤也显示出优良的细节。 尺寸:2/3自然大,19×11×11cm 材质:PVC材料
上海欣曼科教设备有限公司 2021-08-23
一种基于负荷阻抗的电网等值方法
本发明公开了一种基于负荷阻抗的电网等值方法,旨在电力系 统准确潮流计算结果未知的情况下对电网进行分块等值;包括:首先 将电网根据需要分成多个子电网,将要等值的子电网中的节点注入功 率转换为恒定阻抗接在该节点上,再用高斯消元法对要等值的子电网 除边界节点以外的节点进行消去,得到一个包含未等值子电网所有节 点和等值子电网边界节点的等值网络。本发明所提出的等值方案不依赖于电网的准确潮流结果,因此可以在电网潮流计算不收敛的情况下 实现子电网的近似等值;所建立的等值模型用于电网的潮流计算时, 能满足未等值电网
华中科技大学 2021-04-14
MICROTEST 7631耐压测试仪/AC/DC/绝缘阻抗
7631耐压测试仪 –True RMS 量测线路 –可设定爬升时间 (0.1s-10s) –支持 Remote 远程控制信号 –7630 为 2 通道测试、7631 为 8 通道测试 –USB Host 可储存配置文件案及韧体的更新 –电弧侦测功能检测线圈是否有细微的放电现象 –提供 AC 耐压 5000V、DC 耐压 6000V、绝缘阻抗 12GΩ – 7631 可外接 7508/7516(8/16) 信道扩充扫描盒,满足车用线或 PCB车用测试   ‒高压输出安全开关,进行测试时需要将此端口进行短路机台才能输出测试电压 ‒测试运行中若该端口发生开路现象,机台会立即停止测试(停止输出电压) ‒机台画面同步会显示INTER LOCK ‒抗电强度 确保电子材料足以抵抗瞬间高电压的测试 例如:检测制程造成的漏电距离和电气间隙不足的瑕疵产品   ‒漏电流 预防产品发生故障或瑕疵所导致的危害,进行漏电流测试,如确保线材 绝缘层因制程破坏导致线材本身产生超出漏电流规范值的不良情况 ‒绝缘电阻 在某些安全规范下,会先要求做决元电阻,再进行耐压测试,主要检测产 品的绝缘特性是否符合标准范围,测试结果以电阻值Ω表示     关注微信公众号,看产品视频  
东莞中逸-益和MICROTEST 2022-06-29
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