底座尺寸400*300*70mm,模具一体成型，两端呈弧形，上翘47度，两面四角注塑有1.5mm脚垫，长度25*25mm，仪器整体高度320mm，电源采用9v2A供电，电源总开关型号电源总开关型号KCD1-105 耐压400V，仪器后面装有电源接插件型号DC-5.5-2.1，方便接插，电机9V，转速3000转/分，探究离心力的运动

技术性能 ◆微机控制，高效能变频电机。◆单旋钮按键，运行中参数可根据需求设置。◆LCD液晶屏，同时可显示转速、离心力和时间等数值。                 ◆机壳采用ABS注塑一次成型，外观简洁。                    ◆配有电子门锁，设有门盖、超速保护，具有故障自动报警功能，安全可靠。 ◆10挡升/降速运行模式。 型号 L-500 最高转速 5500r/min 最大相对离心力 4980×g 最大容量 4×250ml 转速精度 ±10r/min 定时范围 10s～99min59s 整机噪声 ≤ 65dB(A) 电源 AC220V  50Hz 10A 整机功率 500w 外形尺寸 580×470×355mm(L×W×H) 重量 33kg     转子编号 名称 最高转速 （r/min） 最大相对离心力 (×g) 容量 / L-500主机 5500 4980 / NO.1 角转子 5500 4160 12×15ml NO.2 角转子 5500 4620 24×10ml NO.3 水平转子体 / / /   管架 5000 4980 4×100ml         4×50ml NO.4 水平转子体 / / /   管架 4300 3620 8×50ml         4×8×15ml         8×100ml NO.5 水平转子 4500 3270 4×12×7ml/5ml （真空采血管）         4×16×7ml/5ml （真空采血管） NO.6 水平酶标板转子 4000 3040 4×2×96孔 NO.7 水平转子 4500 4075 4×250ml NO.8 水平转子 4200 3660 4×250ml（尖底）                                              

* 微机变频控制系统，液晶显示，具有转速和离心力双显示功能； * 采用大功率交流变频电机驱动，配置高精度测速系统； * 单旋钮设置键，方便快速参数设定； * 具有快速程序调用按键，9组程序存储空间，9档加减速度控制，停机无回荡功能； * 采用进口恩布拉科压缩机组，制冷加热双回路设计，精确控温； * 离心内腔采用不锈钢304材料，特殊工艺处理，不产生浮锈； * 全自动识别不同转子，并进行限速控制； * 转子安装采用膨胀式结构，互换方便； * 运行中可随时更改参数，无需停机； * 单独的Short spin瞬时离心功能按键，按住即可离心； * 具有故障自动诊断系统，针对超速、不平衡、电子门盖等多重保护，确保仪器安全使用。

* 采用大功率交流变频电机驱动，配置高精度测速系统； * 微机变频控制系统，7寸高清IPS电容触摸屏，液晶显示； * 程序可编辑操作。99组程序存储空间，15档曲线加减速度控制，停机无回荡功能； * 具有转子平衡自动测定功能，不平衡发生时仪器自动停止运转； * 运行中可随时更改参数，无需停机； * 采用悬挂式平衡系统，低速运转稳定，高速运转噪音小； * 采用进口恩布拉科压缩机组，制冷加热双回路设计，精确控温； * 独特的风冷排风设计，温升低、噪音小； * 离心结束后离心机盖自动打开，便于取放样品； * 单独的Short spin瞬时离心功能按键，按住即可离心； * 采用双吸入电子门锁，轻按快速关闭门盖、安全静音； * 具有故障自动诊断系统，针对超速、超温、电子门盖等多重保护，确保仪器安全使用。

产品应用：         微型掌上离心机外观新颖独特，灵巧多用，配备多种离心转子和多种试管套，适用于2.0ml、1.5m离心管和 8x4x0.2ml PCR管，广泛应用于化工、制药、食品等行业中。 产品特点： ● 便捷高效的多种转子，兼容2.0ml 、1.5ml多种离心管； ● 采用高频宽电压电源技术，输入电压范围100~240V，保证运行； ● 独特的转子卡扣设计，方便转子更换； ● 较低噪声，运行平稳，采用直流电机经久耐用，安全可靠； ● 人性化设计，半自动开盖功能，开盖时间自动停止时间3秒内； ● 全透明球形上盖，多转子配备，在追求创意和简洁中达到最佳效果，为科研而理性的实验室产品注入人性色彩。

HMDS真空预处理烘箱产品用途:该产品主要用于半导体行业，HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。     一、产品规格： 型号：BD/HMDS-6090   内形尺寸：450×450×450     型号：BD/HMDS-6210   内形尺寸：560×640×600   二、 技术参数： 1、控温范围：RT+10～250℃  2、温度分辨率：0.1℃     3、温度波动度：±1℃ 4、达到真空度：小于133Pa 5、真空度：100Pa～100000Pa 6、定时范围：1～9999min 7、工作室材料：316L 8、样品架：2块、3块 9、真空泵：4L/S 10、电源电压：220V/50Hz、380V/50Hz三相五线制 11、总功率：3000W、4500W 三、产品特点： 1、外壳采用冷轧钢板制造，表面静电喷塑。内胆、样品机、连接管路均采用优质不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。 2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。 3、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 四、HMDS预处理系统操作流程： 1、首先确定烘箱工作温度； 2、预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分; 3、再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应; 4、当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。 五、控制系统： 1、7.0英寸维纶彩色触摸屏，三菱PLC控制器； 2、富士微电脑双数显温度PID控制器，控温精确可靠； 六、保护系统： 1、漏电保护； 2、超温保护； 3、缺液保护；              七、设备使用条件： 1、环境温度：5℃～＋28℃（24小时内平均温度≤28℃） 2、环境湿度：≤85%R.H 3、操作环境需要室内通风良好,机器放置前后左右各80公分不可放置东西; 八、HMDS真空预处理烘箱服务承诺： 保修十二个月，免费送货上门,在对该设备安装调试结束后,在用户现场对相关技术人员免费做相应的操作培训,人数不限。