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XM-D023锥体系(皮质核束)电动模型
XM-D023锥体系(皮质核束)电动模型   XM-D023锥体系(皮质核束)电动模型演示面神经、舌下神经的核上下瘫和皮质核束的正常通路。   一、显示内容: ■ 椎体系:演示由中央前回和中央旁小叶前部的巨型椎体细胞和其他类型的椎体细胞以及额、顶叶部分区域的椎体细胞的轴突共同组成椎体束,其中一部分下行至脊髓的纤维束,另一部分止于脑干脑神经运动核的纤维束。 ■ 面神经核核上瘫:演示核上运动神经元受损,产生对侧眼裂以下的面肌瘫痪,表现病灶为对侧鼻唇沟消失,口角低垂并向病灶侧偏斜,流涎,不能鼓腮、露齿等。 ■ 面神经核核下瘫:演示面神经核核下神经元受损,可致病灶侧所有面肌瘫痪,额横纹消失,眼不能闭,口角下垂,鼻唇沟消失等。 ■ 舌下神经核核上瘫:演示舌下神经核核上神经元受损,可产生伸舌时舌尖偏向病灶对侧。 ■ 舌下神经核核下瘫:演示舌下神经核核下神经元受损,可产生全部舌肌瘫痪,伸舌时舌尖偏向病灶侧。   二、技术参数: ■ 尺寸:34×34×81cm ■ 材质:PVC材料+木框   三、标准配置: ■ XM-D023锥体系(皮质核束)电动模型:1台 ■ 电源线:1根 ■ 说明书:1册 ■ 保修卡合格证:1张
上海欣曼科教设备有限公司 2021-08-23
离子交换柱
产品详细介绍离子交换柱含玻璃纤维和离子交换树脂
宁波舜盈机电科技有限公司 2021-08-23
等离子翻转器
产品详细介绍本系列设备采用先进、稳定、低噪音台湾电机。可接无线遥控。它采用长距离遥控技术,通过遥控器可以方便的控制其伸展同收缩。 该设备工作稳定、噪音低,体积小、应用广泛、安装方便、操作简单。      该设备外壳采用高硬度的高级碳钢,其可以防震、防潮、防腐、防锈,其外表光滑、外观大方。 参数: 外形尺寸:600*550*180  展开高度:680   翻转角度:90度   负重:100公斤   使用范围:37-63寸   电源:AC20 50HZ   功率:25W   环境温度:-40度到85度  工作温度:0度到40度
北京明建视讯科技发展有限公司 2021-08-23
氟离子复合电极
产品详细介绍PF-1C型复合氟离子电极,集氟离子选择电极与参比电极为一体,单独1只电极即可进行使用。用于测定水溶液中氟离子活度或间接测定能与氟离子形成稳定络合物的离子活度的电极。复合氟离子电极技术参数:测量范围:10-1~10-5MF(即1-5PF或1900-0.19PPM)溶液温度:15~35℃绝缘电阻:大于等于1乘10(11次方)欧姆电极内阻:小于等于10兆欧零电位:0-1PF液接界:陶瓷芯参比电极:Ag/Agcl电极接口:BNC外形尺寸:¢12×140mm
上海越磁电子科技有限公司 2021-08-23
电弧放电光线研磨截面高精度抛光方法及装置
该装置属专利技术,是一种电弧放电光纤研磨截面高精度抛光方法及装置,利用两电极间的放电电弧对研磨后光纤表面进行抛光处理,以便去除光纤研磨过程中产生的微裂损伤,提高研磨光纤的质量的新型光纤抛光设备。属于光纤通信系统技术领域,特别属于利用光纤包层场的变化来制作高精度光器件的技术领域。 光纤属于硬脆玻璃材料,在光纤研磨过程中,研磨砂将不可避免地会在其表面产生大量的凹坑和微裂损伤,表面粗糙度较高,从而引起光信号的散射和吸收损耗较大,虽然采用颗粒尺寸很小的微粉对光纤的研磨表面进行机械抛光,可在一定程度上降低表面的粗糙度,但机械微粉抛光法并不能消除研磨光纤表面那些不可见的微裂损耗,如果不进行处理,当空气中的水汽进入这些微裂纹时,将导致所制作的光纤器件的性能很快恶化,对提高器件的稳定性极为不利的。而且由于光纤的直径仅为125微米,为提高其研磨表面的光滑行对机械微粉的材料、尺寸和纯净性要求极高,在实际加工中并不适用。因此,为进一步提高光纤研磨后表面的光滑性,避免微裂损伤造成的器件性能恶化,迫切需要一种价格便宜、使用方便、并且能对研磨光纤表面的微裂纹进行消除的新型抛光设备。 技术内容: 利用两电极间的放电电弧对研磨后光纤表面进行高精度抛光的方法及装置, 解决其技术问题所采用的技术方案是: 一种电弧放电光纤研磨截面高精度抛光方法,其特征在于,利用在电压控制下,两电极放电电弧所产生的高温效应,将研磨光纤的表面进行熔化,消除研磨光纤表面的微裂纹;通过定位传感器,是放电电极沿着研磨后待抛光光纤的轴向移动,调节光纤抛光的长度;利用电机速度控制器控制电极的移动速度。 技术特点: 1、利用在电压控制下,两电极放电电弧所产生的高温效应,经研磨光纤表面进行熔化,消除研磨光纤表面的微裂纹; 2、利用电压控制PZT,调节放电电极与研磨后待抛光光纤间的距离,调节精度为0.01微米; 3、通过精密导向机构和定位传感器控制抛光电极的移动范围,调节光纤抛光的长度,长度为0-140mm; 4、利用电机速度控制器对电极的移动速度进行控制。 利用电压控制压电陶瓷PZT,从而调节放电电极与研磨后待抛光光纤间的距离;并通过定位传感器来控制抛光电极的移动范围,实现光纤抛光的长度的调节。其发明的主要内容如下: 该抛光装置,由PZT高度调节器,电机速度控制器、精度导向传送带,定位传感器、V型刻槽光纤放置用微晶玻璃和电极组成。主要优点:(1)采用火焰抛光的方法,通过PZT调节研磨抛光后的光纤与电极的相对位置,利用电极打火所产生的高温将研磨光纤的表面进行熔化,从而有效消除研磨光纤表面的粗糙度,抑制微裂纹或凹坑造成的较大损耗;(2)通过精密导向机构的定位传感器,是放电电极沿着研磨后待抛光光纤的轴向移动,从而实现对光纤抛光的长度进行任意调节;(3)利用电机速度控制器对电极的移动速度进行控制。
北京交通大学 2021-04-13
一种质子束流强调制方法及系统
本发明公开了一种质子束流强调制方法及系统,在基于回旋加 速器的质子治疗装置中,能量选择模块使得不同能量下质子束的传输 效率差异很大,而治疗端要求质子束保持较稳定的流强范围。本发明 方法首先在质子束经过能量调制后,获取不同能量质子束在降能过程中的束流损失和传输效率,得到低能量至高能量的流强比值。根据临 床要求的质子束流强动态比,对经过能量调制后的不同能量点进行扩 束及准直后,完成设计比例范围内的流强调制,可将流强比值控制在 一定值之内。本发明建立在蒙特卡洛计算方法及束流光学基础上,设 计方法可靠,实现
华中科技大学 2021-04-14
高性能脉冲压缩光栅和合束光栅研发及应用
光栅尺寸在国际上居于领先地位,最大达到了 1400mm, 远超对手的 940mm;研制了一系列国内首台(套)具有自主知识产权的米量级光栅研制工艺关键设备;在国际上首创了曝光拼接方法,实现了利用小口径曝光系统,制作出了远 大于曝光系统口径的光栅;掌握了脉冲压缩光栅设计、工 艺容差分析和工艺过程控制技术,通过对曝光监测、显影监测和刻蚀监测来保证光栅制作工艺的稳定性,保证了光栅制作质量;首次对大口径高阈值光栅采用了综合清洗技术处理,提高了光栅的衍射效率和抗激光损伤阈值。 
中国科学技术大学 2023-05-25
新加坡EUTECH优特便携式PH计、电导率仪、离子浓度计
产品详细介绍
广州市博勒泰贸易有限公司 2021-08-23
锂离子电池材料
本发明涉及一种锂离子电池正极材料原位碳包覆硼酸锰锂碳复合材料,是 将锂源、锰源、硼源和碳源按比例在分散溶剂中研磨混合均匀,烘干得粉体,再 于管式炉中将煅烧得到六方或单斜相的硼酸锰锂与碳的复合材料。将所得产品 制备成锂离子电池极片组装成电池,有较高的放电容量和良好的循环稳定性。 本发明采用固相方法,耗能少,可批量工业化生产,已申报国家发明专利。
山东大学 2021-04-13
动力锂离子电池
研究背景及内容 :新能源汽车未来逐渐替代传统汽油车已成为各国发 展汽车产业的共识,作为核心部件的动力电池则更被企业和投资者看好。 动力电池是新能源汽车发展的关键:混合动力汽车是目前最佳的过渡产 品,但纯动力电池汽车是未来发展方向,核心技术在电池技术上的突破。 当前许多知名的汽车制造商都致力于开发动力电池的电动汽车, 如美国福 特、克莱斯勒, 日本丰田、三菱、日产、韩国现代、 法国 Courreges、Ventury
南昌大学 2021-04-14
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