概述：混合、细磨、小样制备、纳米材料分散、新产品研制和小批量生产高新技术材料的必备装置。该产品体积小、功能全、效率高、噪声低，是科研单位、高等院校、企业实验室获取微颗粒研究试样（每次实验可同时获得四个样品）的理想设备，配用真空球磨罐，可在真空状态下磨制试样。广泛应用于地质、矿产、冶金、电子、建材、陶瓷、化工、轻工、医药、美容、环保等部门。可以根据工艺要求设定转速、正反转交替时间、和总的研磨时间。工作原理： 生产的XQM系列球磨机是在同一转盘上装有四个球磨罐，当转盘转动时，球磨罐在绕转盘轴公转的同时又围绕自身轴心自转，作行星式运动。罐中磨球在高速运动中相互碰撞，研磨和混合样品。该产品能用干、湿两种方法研磨和混合粒度不同、材料各异的产品，研磨产品最小粒度可至0.1微米（即1.0×10mm-4）。产品特点： 齿轮传动克服了原皮带传动易打滑转速不稳定的缺点； 即保持了齿轮传动的稳定性，又克服了原皮带传动易打滑，转速不稳定的缺点。； 球磨罐采用行星式运动，球磨效率高、粒度细； 变频控制，可根据试验结果选定理想转速； 变频器具有欠压和过流保护，可以对电机进行一些必要保护； 整体一体具有定时关机、自动定时正、反转功能，能按需要自由选择单向、交替、连续、定时与不定时运行方式，提高研磨效率； 一次实验可同时获得四种大小不同，材料各异的样品； 重心低、性能稳定、结构紧凑、操作方便、安全可靠、噪声低、无污染、损耗小； 设备装有安全开关，可以防止设备在安全外罩打开的情况下启动，以免发生安全事故； 技术参数：表一：立式半圆形行星球磨机配罐参考  表二：立式半圆形行星球磨机主要参数

磁性液体密封是磁性液体最重要的应用之一，它是一种非接触式的液体密封，同传统的机械密封相比，具有密封性能好、泄漏率低、摩擦力矩小、寿命长等特点，在许多场合具有不可替代的作用。本项目系统研究了磁性液体的制备技术，建立了磁性液体密封设计理论与方法，不仅成功的解决了一般工况下的磁性液体密封问题，而且在特殊工况下的磁性液体密封方面取得了许多创新性成果。

该液体酶稳定剂通用性强，适用于多种酶制剂，并且通用于未经浓缩的酶液、中空纤维超滤浓缩或膜式超滤浓缩的酶液，都可在室温保存三个月至八个月，剩余酶活力在80%。具体技术指标为：1．未经浓缩的液体α-淀粉酶，室温保存9个月，剩余酶活力达80%以上。/line2．中空纤维超滤浓缩的液体α-淀粉酶，室温保存6个月，剩余酶活力达80%以上。/line3．膜式超滤的液体碱性蛋白酶，室温保存8个月，剩余酶活力在80%左右。/line4．未经浓缩的液体糖化酶，室温保存5个月，剩余酶活力接近90%。/line5．经中空纤维超滤浓缩的液体糖化酶，室温保存3个半月，剩余酶活力接近90%。未经浓缩和膜式超滤的酶液添加稳定剂后的液体酶稳定性明显好于经中空纤维超滤浓缩的液体酶。因此膜式超滤较好。实验证明，液体酶添加剂能提高酶的抗变性能力，促进变性酶的复性；不同添加剂之间有协同或拮抗作用，对稳定剂配方的筛选提供了理论依据。/line所用的添加剂价格低廉，来源方便，并具有通用性。主要设备是超滤浓缩装置及包装容器。厂房面积约200平方米。可通过技术转让或技术入股方式进行合作。

磁性液体密封是磁性液体最重要的应用之一，它是一种非接触式的液体密封，同传统的机械密封相比，具有密封性能好、泄漏率低、摩擦力矩小、寿命长等特点，在许多场合具有不可替代的作用。本项目系统研究了磁性液体的制备技术，建立了磁性液体密封设计理论与方法，不仅成功的解决了一般工况下的磁性液体密封问题，而且在特殊工况下的磁性液体密封方面取得了许多创新性成果，具体如下： （1）发现了影响复杂工况下磁性液体密封启动力矩的主要因素，建立了复杂工况下磁性液体旋转密封启动力矩的表达式，解决了磁性液体旋转密封低温启动力矩大的难题，该项技术成功的应用于我国先进雷达等现代军事装备上。 （2）揭示了磁性液体静密封中磁性颗粒的凝聚规律；发现了磁性液体静密封的破坏机理；建立了大直径磁性液体静密封设计方法和密封结构；解决了大直径（指密封直径大于1.5m）的静密封问题。该成果应用于核爆炸关键设备上。 （3）揭示了磁性液体往复密封的失效机理；建立了往复轴磁性液体被携带量公式及往复轴磁性液体密封耐压公式；发明了往复轴磁性液体密封的设计方法和新结构，解决了真空镀膜机等设备的往复密封难题。 （4）制得了多种不同基载液的磁性液体，特别是制得了高性能耐酸耐碱的氟碳化合物基磁性液体，拓宽了磁性液体的应用领域。至今为止，国内外二百多家单位使用研制的氟碳基磁性液体。 北京交通大学磁性液体研究所设计的磁性液体密封装置，密封介质为气体或部分液体，泄漏率小于10-12Pa•m3•S-1，单级耐压能力一般为0.2个大气压，温度适用范围-40℃~200℃,寿命可达10年。在国内首次解决了罗茨真空泵CJ-150、CJ-300、CJ-600和单晶硅炉TDR-62、TDR-70、TDR-80及美国8600型等型号的磁性液体密封问题；多次修复美国、德国等国家生产的设备上的磁性液体密封装置；为总装和国防科工委设计了数十种具有特殊要求的磁性液体密封结构。 目前，磁性液体研究所已具有了国内最完备最先进的磁性液体制备和磁性液体密封的加工生产设备，能够生产出性能和国外产品相媲美甚至超越的各种磁性液体及磁性液体密封装置。生产的密封产品已被国内外上百家单位所采用，广泛用于单晶硅炉、真空镀膜机、甩带机、军用雷达、坦克等器件上。和国内外同类产品相比，已处于国内领先，国际先进的水平。在特殊工况磁性液体密封方面，处于国际领先的水平。

讲授《机械设计》滑动轴承教学内容时，需介绍液体形成动压条件（机理），根据课程要求我实验中心研制开发了液体形成动压演示仪，该演示仪可配合滑动轴承实验台使用。

EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机 真空腔室：前开门真空腔体，方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养； 真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空极限优于5.0✕10-5Pa（经烘烤除气后）；另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空极限优于3.0✕10-6Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 蒸发源：4～6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选，多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定； 蒸发电源：真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能； 基片台：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～20r/min连续可调； 基片台功能：衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距最大350mm； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 可镀材料：可沉积金属（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金属、化合物（MoO3、LiF等）及有机材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年代才出现将 CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行（工艺温度 高于 1000ºC），涂层种类单一，局限性很大，起初并未得到推广。到了上世纪七十年代末，开始出现 PVD（物理气相沉积）技术，之后在短短的二、三十年间 PVD 涂层技术得到迅猛发展，究其原因： （1）其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保； （2）其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要； （3）可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。真空涂层技术发展到了今天还出现了 PCVD（物理化学气相沉积）、MT-CVD（中温化学气相沉积）等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。

本技术的真空、反重力充型特点，能够平稳地将液态金属充入到铸型中，使毛坯中含有极少的气体和气孔；本技术的压力下凝固补缩特点,能够对补缩通道施加大的补缩压力，减少或消除凝固收缩形成的缩松和缩孔缺陷。采用本技术生产的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,获得高质量、优质毛坯。 本技术直接对坩埚内和真孔罩内部的压力进行调压，设备结构简单，密封性好，调压空间小，增强了控制系统的快速性与及时性，降低能耗；炉体具备倾翻机构，坩埚与调压管路间采用软管连接简化机构，便于倾倒剩余液体，操作简单，降低成本。另外，本技术通过对成型过程中铸型内液态金属液面位置和温度的检测，可根据所获得的信号设置坩埚内的压力控制，实现真空调压铸造工艺的精确控制。 主要应用范围： 本技术适合于各种壁厚的铝合金及其复合材料的毛坯生产。 技术经济分析： 本技术为铝合金及其复合材料的液态反重力成型制造技术，该技术可以在真空条件下将液态金属平稳地充入到铸型（金属、石墨、树脂砂、水玻璃砂等铸型），在压力下完成凝固，实现凝固补缩。该技术能够达到的真空度低于－0.1MPa，可以实现的补缩压力为0.2MPa。本技术采用计算机实现真空、充型过程和凝固补缩过程的精确控制。 目前，本技术已经成功用于我国高速客车铝基复合材料制动盘的制造生产，获得了优质的制动盘质量，取得了好的社会经济效益，正在进一步推广应用到高强度铝合金轴箱的成型制造过程。

真空镀膜技术广泛用于航空、航天、工业、农业等各行各业，本单位长期从事镀膜技术的研究和开发，先后研制出两台镀膜机，达到国内领先水平，同时开展真空技术及器件、蒸铝技术、滤光片技术、各种保护膜的研究和开发，有多名长期从事相关技术研究的教授和专家，理论基础扎实及实践能力强。 

产品详细介绍 小型真空碳管炉  产品编号：52310445116  ◎产品说明  设备技术：  本电炉为周期作业式，广泛用于功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、硬质合金、粉末治金等高温下进行烧结处理，也可在充气保护下成型烧结。  技术参数：  1、型号：ZT-18-22  2、额定功率：18KW  3、额定温度：2200℃  仪表控温精度：正负1℃  5、控温方式：钨铼热电偶+红外衣  工作区尺寸：直径80x100mm  7、冷态极限真空度：5x10-3 Pa  8、压升率：2Pa/h  9、电源电压：380V 50Hz 单相  10、充气压力：<0.03Mpa（可充氮气、氩气）  11、发热元件：石墨管（高纯石墨）  结构与说明：  1、炉体：采用双层水夹层结构，"内层为不锈钢（1Gr18N9Ti）抛光。上、下法兰组焊筒形结构，法兰平面开设封闭槽。采用“0”圈真空密封，并设有水冷装置（防止因温度过高“0”圈老化）。开设有抽气、热电偶、红外仪等。  2、炉盖：采用双层水夹层封头结构，设有观察窗，屏蔽锁紧、开启装置，并通水冷。  3、炉底：采用双层水夹层封头结构，设有电极引出装置，支撑平台等，并设有水冷装置。  4、炉架：山型钢及钢板组焊成箱式结构，炉体安装放在箱体内，美观大方。  5、真空系统：又一台K-100扩散泵配冷阱，一台2XZ-8D直联泵、手动高真空蝶阀、真空压力表（Pa）、充气阀、放气阀和真空管路等组成，扩散泵采用金属波纹软管快速接头联接（减缓震动），真空度的测量采用数显复合真空计。  6、控制系统PLC控制：控制系统是由我公司自行开发人机对话操软件，画面显示友好，操作简单，要以炉内工况进行实时监测，软件彩色模拟屏显示，加热升温显示及真空阀门的控制都集成到电脑上操作，现场也可以手动操作，需要电脑操作时，直联由232接口连接到笔记本电脑上启动软件，可检测到各种状态，也可通过485通讯连接到办公室操作，本设备可采纳温度、真空度曲线和烧结时间，方便用户根据历史曲线分析烧结工艺。控温方式为1300℃以下热电偶升温。1000℃-2200℃红外仪表自动控制。压力控制可采用手动及自动方式。控制系统上设有过流、超温及断水等分类报警功能。  7、气路系统：整个系统中设有1个j进气口、1个放气口、可冲气氛。  8、电气控制：采用各种管道阀等相关装置组成，具有断水声光报警自动切断电源能。  9、变压器及连接电缆：采用与之相匹配的变压器及连接电缆。  10、发热元件及隔热屏：发热元件采用高纯石墨加工成圆筒形结构，隔热屏采用石墨复合材料、碳毡、石墨毡，保温性能好、加热均匀、辐射面大、耐冲击性好，可快速加热和冷却。保温层和发热分体，易维护和取装，保温套外用不锈钢框架支撑，固定。