成果简介：油脂精炼过程中，脱胶是非常重要的一步工序，脱胶效果的好坏 直接影响到油脂精炼的效率和最终产品的质量。传统的脱胶方法常存在产品 质量不稳定、消耗大、得率低、“三废”排放量大等问题。酶法脱胶工艺是现 代工业生物催化技术在传统油脂行业中的应用，是对现有化学或物理脱胶工 艺的改进，以提高其经济性和环保性，有着广泛的发展前景和重要的经济和社会价值。本技术以自行筛选所得菌株 BIT-18表达的磷脂酶为对象

不溶性硫磺 (IS) 是硫磺的同素异形体，但它不溶于二硫化碳。随着环保法规、燃料清洁化要求的日益严格，石油与天然气加工、煤化工、电力、金属矿业等行业回收的普通硫磺数量不断增加，普通硫磺面临市场饱和。 我国车用轮胎产量居世界第一位。作为子午胎生产的不可或缺的专用硫化剂——不溶性硫磺的市场价格是普通硫磺的近15倍，开发生产IS这种硫磺深加工产品，不仅可大幅提高产品的附加值，还可解决环境污染问题。 目前工业上硫磺转化为不溶性硫磺多采用高温气化法，但该法易燃易爆、能耗大，因此，近年来低温熔融法受到人们的关注。由于二硫化碳对普通硫磺的溶解性很好、价格低、回收利用较方便，因此，无论高温法还是低温法，目前均采用CS2作萃取剂来提纯产品。但是，CS2沸点很低、挥发度极高、易燃易爆，毒性很大。生产过程损耗达10-20%，使得IS生产面临了严峻的安全环保问题。国内生产的IS产品高温稳定性 (120℃/15min) 大部分低于40%，与国外同类产品有很大的差距。因此，高质量的IS产品近70%依赖进口。 目前，除了国外Flexsys品牌的IS产品占全球市场的近90%，其它IS产品质量都难以与它相比。现有的生产工艺能耗大、设备腐蚀严重、易燃易爆，且萃取所用的二硫化碳溶剂存在相当突出的安全环保问题。 目前，我们在该领域开展多年研究，取得了如下成果：以炼油企业的回收硫磺为原料，采用低温 (小于300℃) 熔融工艺法，可使得硫磺聚合转化为不溶性硫磺的收率达到40%以上，这在低温熔融工艺法中属于高转化率。 针对现有IS生产中广泛使用的CS2萃取剂存在的安全环保方面的突出问题，我们开发了萃取效果好 (除CS2外目前萃取效果最好) 、安全、环保、易回收有望替代CS2的新型萃取剂，成为不溶性硫磺生产技术的一个重大突破，属国内外首创。 针对国内不溶性硫磺产品普遍存在热稳定性不高的问题，研制了不溶性硫磺生产环节中的系列高温热稳定剂，使IS的油浴法120℃，15分钟的热稳定性达到50%以上，与国外产品接近，国内处于领先。

目前普遍采用的乳酸生产工艺中存在污染大、排放多的问题。理论上每生产1吨乳酸，消耗硫酸0.54吨，碳酸钙0.56吨，排放废渣硫酸钙0.76吨、CO20.24吨，废水30吨。本工艺采用新型结构陶瓷膜和双极膜电渗析耦合技术对乳酸生产进行技术革新，从源头对传统乳酸生产过程进行改革，从而实现节水减排。

本工艺采用纳滤膜分离技术实现印染行业连续染色的工艺如图所示，包括：（1）将纺织品放置于染浴中，将60~100℃的染液排入纳滤膜分离系统进行浓缩过滤，脱除染液的色度和悬浮物；（2）含有无机盐、碱或酸的纳滤膜渗透液返回染浴进行重复利用；（3）纳滤膜的浓缩液直接进入蒸发器进行蒸发结晶，得到固体粉体，实现回收利用；蒸发产生的蒸汽和蒸馏水进入染浴回收利用。与常规浸染工艺相比，可实现染液的循环利用，减少化学品和水的消耗，实现纺织品的连续染色，也可有效利用废染液的热能，降低印染成本和废水排放量。本成果已申请中国发明专利，可提供现场试验装置。 专利情况： 成熟度：量产 合作方式：技术入股、技术转让、技术服务 创新要点：本工艺将纳滤膜分离技术应用到染色工序中，从源头上减少了污染物的排放，并回用无机盐以实现染色工艺的连续清洁化，很大程度降低了生产成本。与常规浸染工艺相比，可实现染液的循环利用，减少化学品和水的消耗，从而实现纺织品的连续染色，也可有效利用废染液的热能，降低印染成本和废水排放量。

发酵香肠是一类高档肉制品，以其风味受到消费者欢迎。本技术利用酶法促 进发酵香肠生产过程中风味的形成，在保持产品原有风味、香型不变的情况下， 使其风味物质形成量增大 7 倍（以 GC/MS 出峰面积计），生产时间明显缩短，产 品风味更浓、持久性更强。

产品详细介绍极谱法溶解氧电极电极参数：溶解氧电极 在线溶解氧电极 溶解氧电极 Bsens420在线溶解氧电极型号Bsens410Bsens420Bsens430Bsens440测量范围0.00-20.00ppm0.00-20.00ppm0.00-20.00ppm0 - 200ppb测量原理荧光法极谱式极谱式极谱式分辨率0.01ppm0.01ppm0.01ppm0.1ppb精度±0.1ppm±0.2ppm±0.2ppm±0.2ppb电极材质316L不锈钢PPS,金/银电极316L不锈钢316L不锈钢工作温度-10～60℃0～60℃消毒:0-130℃，測量:0-80℃0～60℃最大耐压5bar4bar6bar4bar防水等级IP68IP68IP68IP68电缆长度10m5m5m5m应用污水处理、地表水、养殖、海水检测等场合污水处理、地表水、养殖、海水检测等场合生物工程，制药，酿酒等发酵领域和特殊化学高温过程火力电厂，电站除盐水，锅炉给水等微量氧含量的场所

产品详细介绍土壤PF曲线测定(陶瓷板法)水文关系是影响农业（粮食商业生产中的有效灌溉和施肥技术）或土木工程土壤使用的最重要的物理现象之一。土壤的湿度特征测定，可以用各种方法进行，其中一种即用陶瓷板测量pF曲线（pF2.0-4.2）。SA带陶瓷板的pF测量装置，最小标准装置SB带陶瓷板的pF测量装置，完整标准装置设备适用于pF范围2.0-4.2（吸力0.1-15巴）的pF曲线测定，以及土壤湿度变化测量工具（soil moisture block）、或土壤湿度测量设备。标准装置包括：两个带陶瓷板的抽取器（0.1MPa，0.3MPa和1.5MPa，分别为1.3和15巴）及附件，土样环，压力控制面板和压缩机。抽取器中可同时放置几只装有土样的陶瓷板。压力控制面板的标准装备是：两只压力计，0-2 MPa和0-0.4 MPa（分别为0–20巴和0–4巴）。装置中包括的压缩机（220V-50Hz）经过特别设计，最大压力2.0MPa（20巴），安全预防措施完备，无噪音。原理提高抽取器中的气压，将土样中的水分提取出来。水从抽取器中流出时，经过一只有孔的陶瓷板。高压气体不会穿过陶瓷板上的孔眼，因为孔眼已经被水塞住。孔眼越小，空气透出之前气压越高。在一段时间以内，无论抽取器内的气压值是多少，土壤中的水分会流经每一土壤颗粒、陶瓷板和外流管。PF曲线测定(陶瓷板)水停止从外流管流出时，就达到了平衡，此时抽取器气压和样本的土壤吸力（也即水分含量）之间，有着精确的比例。平衡值的精确度，不会高于供气的调节，这样压力控制面板就有了两个独立的调节器。用途了解了土壤的湿度特征，就可以测定/计算：土壤的孔隙容积。土壤的孔隙大小分布。毛细上升容量。地下水位一定的条件下，土壤的气体成分和水分。土壤容水量和可用水分的测定。土壤吸力与种子发芽时间的关系研究。优点与其它测量方法如压紧法、离心过滤法、分子吸收相比，其优点在于相对简单。土壤水分在有控制的条件下从土样中提取，方法较为可靠。方法可用在备好的土样，或静态的土心上。不会影响土壤结构。可对每一种土壤类型都绘制出pF曲线。这些曲线反映了土壤吸力（土壤保持水分的吸力）与所含水分的关系。这个关系，在土壤水分运动的研究中，以及土壤含水对植物生长来说，其质量和可用程度的研究中，是很重要的。

本成果以水溶性丙烯酸酯树脂为基体制备特种胶黏剂，胶黏剂可与水任意比例混合，VOC含量低，无刺激性气味。胶黏剂在基材表面干燥后，室温状态下为无色透明薄膜，在一定温度下软化并具有一定粘结性，继续升温并保持一段时间后可以形成热固性树脂，具有较高的粘结强度。本成果已经通过中试试验，产品质量稳定，具有进行大规模生产的前景和能力。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。  利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：  在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。