本发明公开了一种用于可见光响应的磁性二氧化钛复合材料制备方法，该方法包括下述步骤：S11：将磁性粉体和二氧化钛溶胶凝胶混合并搅拌形成表面吸附有溶胶凝胶的磁性前驱体；S12：将磁性前驱体从混合溶液中分离，干燥并煅烧后得到负载有二氧化钛的磁性粉体；S13：将负载有二氧化钛的磁性粉体和硝酸银溶液混合并搅拌形成表面吸附有 Ag⁺的二氧化钛磁性粉体；S14：将表面吸附有Ag⁺的二氧化钛磁性粉体分离干燥后与含卤素离子溶液

本发明公开了一种纳米二氧化钛-液晶-丙烯酸酯分散液的制备方 法，包括以下步骤：（1）将丙烯酸酯单体与液晶均匀混合，制得液晶 -丙烯酸酯溶液；加入去离子水，调节 pH 值在 1 至 2 之间；然后加入 表面活性剂，均匀混合后形成乳浊液；（2）向其中添加二氧化钛前驱 体，通过水解缩合反应，生成纳米二氧化钛颗粒，均匀分散于混合液 中；（3）向其中加入硅烷偶联剂，进行硅烷偶联改性，制得含表面改 性纳米二氧化钛的液晶-丙烯酸酯

大粒径硅溶胶是一种重要的无机胶体材料，以其独特的物理化学性质在多个领域得到广泛应用。 一、定义与特性 定义：硅溶胶是一种含有二氧化硅（SiO2​）的胶体溶液，通常呈现为透明或半透明的液体。大粒径硅溶胶指的是粒径在100纳米以上的硅溶胶，其粒径范围可以从100纳米到500纳米不等。 特性： 物理性质：大粒径硅溶胶具有较高的粘度和良好的流动性，能够在高温和高压环境下保持其性能。 化学性质：硅溶胶无毒无味，耐高温、耐酸碱，具有稳定的物理和化学性质。 光学性能：大粒径硅溶胶具有较好的光散射能力，可以在涂料中产生优良的遮盖效果，提升涂料的遮盖力和白度。 机械性能：干燥后能形成坚韧的薄膜，具有一定的耐磨性和耐化学性。 二、制备方法 大粒径硅溶胶的制备方法多种多样，常见的包括： 溶胶-凝胶法：通过控制反应条件，如温度、pH值和反应时间等，调节硅溶胶的粒径和分布。是目前应用最广泛的一种方法。 离子交换法：也称粒子增长法，以水玻璃为原料，通过离子交换反应去除杂质，生成聚硅酸溶液，再经处理得到大粒径硅溶胶。 水热合成法：在高温高压条件下合成硅溶胶，能够获得较为均匀的颗粒分布。 直接酸化法：采用稀水玻璃，经离子交换树脂去除杂质，制备活性硅酸溶胶，再加热保温、直接酸化，控制反应条件使晶粒长大，得到大粒径硅溶胶。 三、应用领域 大粒径硅溶胶因其独特的性质，在多个领域展现出广泛的应用前景： 涂料行业：作为填料和增稠剂，改善涂料的流动性和刷涂性能，提高涂层的附着力和耐磨性。其透明性也适用于透明和半透明涂料的生产。 建筑材料：作为粘结剂，提高水泥和砂浆的强度及耐久性，改善建筑材料的抗渗性能。在混凝土中加入适量的大粒径硅溶胶，可以增强混凝土的抗压强度和耐磨性。 电子行业：用于电子封装材料和绝缘体，提高材料的热导性和电绝缘性，减少电子元件之间的干扰，提高电子设备的性能和可靠性。 陶瓷材料：作为添加剂，改善陶瓷的成型性和烧结性能，增强陶瓷制品的强度和韧性，提高陶瓷产品的表面光洁度和色泽。 橡胶行业：作为填充剂和增强剂，提高橡胶的耐磨性和抗老化性能，改善橡胶的加工性能，降低加工难度，提高生产效率。 纸张和纺织行业：作为涂布剂和助剂，提高纸张的光滑度和印刷适应性，改善纺织品的手感和强度，提高纺织品的耐水性和耐污性。 环境保护：作为吸附剂，有效去除水中悬浮物和重金属离子，改善水质。在土壤改良方面也展现出一定的应用前景。 化妆品行业：被广泛应用于粉底、遮瑕膏等产品中，提供良好的滑爽感，使化妆品在涂抹时更加顺滑，且不易出现结块现象。 四、使用注意事项 在使用大粒径硅溶胶之前，应准备好所需的工具和材料，包括搅拌器、量筒、喷枪等。 注意施工环境，高湿度环境可能导致涂层干燥不良，而低温环境则可能延长干燥时间。 在大规模应用前，建议进行小面积的兼容性测试，确保硅溶胶与基材之间的相容性，避免因不兼容造成的涂层脱落或起泡。 使用后应及时清洗工具和设备，避免硅溶胶固化在工具上，影响下次使用。 五、总结 大粒径硅溶胶以其独特的物理化学性质，在涂料、建材、电子、陶瓷、橡胶、纸张、纺织、环境保护及化妆品等多个领域展现出广泛的应用前景。随着科技的不断进步和生产工艺的改进，大粒径硅溶胶的应用范围和潜力将进一步拓展，为各行业的发展提供更为强大的支持。

本成果包括系列基于硅基或SOI基材料的高压集成技术，可用于700V AC-DC电源管理IC、600V/1200V高压栅驱动IC、不同电压需求的高压开关IC、D类功率放大器、电机驱动IC等的研制，满足照明、工业控制、汽车电子、电机驱动、消费电子等领域的需求。具体包括： 硅基：（1）超低比导通电阻700V单晶型BCD工艺；（2）600V外延型BCD工艺；（3）1200V外延型BCD工艺；（4）48V高功率BCD工艺；（5）40V高压双极型工艺。 SOI基：（1）600V 厚层SOI BCD工艺；（2）650V薄层SOI高压CDMOS工艺；（3）300V薄层SOI高压CDMOS工艺；（4）200V薄层SOI高压CDMOS工艺；（5）100V薄层SOI高压CDMOS工艺；（6）40V薄层SOI高压CDMOS工艺；（7）-200V SOI高压CDMOS工艺；（8）-100V SOI高压CDMOS工艺。

包括基于流量分析的移动应用指纹识别技术以及基于应用程序和浏览器的设备指纹识别技术等。移动应用指纹识别技术通过综合应用动态流量采集和静态特征抽取技术，在保证应用规模和流量覆盖率的前提下，实现流量数据的大规模自动化采集。设备指纹识别技术针对Android系统终端，在零权限的前提下分别基于应用程序和浏览器提取层次化标识符组合形成指纹实现设备识别。

利用现有的电脱盐装置和工艺，通过评选，筛选出相互匹配的破乳剂和脱钙剂，可在电脱盐装置上实施原油脱钙技术。实施原油脱钙技术后，在从原油中脱除钙的同时，还可高效脱除原油中镁、铁、钠等金属。由于原油脱钙后，质量得到改善，凝点、粘度、电导率均有所降低，这不但对电脱盐装置稳定运行有好处；而且对后序加工装置的“长、安、稳、满”运行、提高产品质量和经济效益都有积极的作用。如用脱钙原油生产的渣油作渣油催化裂化装置的原料，轻油收率可以提高0.78%~1.65%，还可减轻油相结垢、提高换热设备的换热效率。

成果描述：声振检测技术是基于声振传感器是检测技术，可以广泛应用于机械、石油化工、电气、航空航天等领域的故障检测。 该技术采用一种新型声振传感器，该传感器采用特殊技术加工而成，灵敏度远高于传统声发射传感器，声振传感器图片如图1所示。声振检测系统样机，如图2所示。 图1 声振传感器 图2 声振检测系统样机 技术指标： ？ 采用振动及超声复合传感器（能同时拾取到振动及超声信号），对两种信号进行融合故障预警率； ？ 信号带宽：5Hz～120KHz； ？ 系统要求两个通道同步采样，采样率1MHz，采样精度16位； ？ 具有良好的人机界面，具有对信号数据存储、分析、判断，并给出诊断结果及双通道信号（时域和频域）显示。 ？ 工作温度：-20oC～100oC； ？ 相对湿度：≤95%。 该技术可为旋转机械故障诊断、压力容器/管道的泄漏，电气设备的放电检测等提供一种更高效的检测手段，为设备的正常运行提供保证。

本技术成果在广东、广西、云南、贵州、内蒙古等地近二十个矿床隐伏矿体上方土壤气体中发现自然 金、自然铜、自然铜铁合金和自然铬铁铜合金微粒，铁、钨、铅、锌、汞、铜的氧化物、硫酸盐微粒，以 及含有成矿元素的氯化物、氧化物、硫酸盐、氢氧化物微粒和含碳微粒，这些发现对隐伏矿找矿是重大发 现和创新。

技术简介： 针对合成碱厂废淡液腐蚀性大、难以处理的特点，课题组开发了耐高温耐腐 蚀的塑料合金填料、耐高温玻璃钢分布器和淡液蒸馏节能工艺技术，能有效解决 现有不锈钢填料和内件的腐蚀问题、处理后的净化淡液氨氮含量高的问题和淡液 蒸馏能耗高的难题。 本技术已在河北、河南、内蒙、江苏、湖北、福建、青海等多家碱厂成功应 用，使用寿命最长在 8 年以上，蒸馏后的塔底废水氨氮含量在 1ppm 以下，净化 后的废淡液可以返回系统循环使用。带有塔底再沸器的淡液蒸馏工艺可以解决母 液膨胀的问题。 应用前景分析： 随着环保要求的提高，对外排废水中氨氮含量的要求越来越严格，甚至要达 到废水零排放，所以对废淡液的蒸馏系统需要强化，需要新上或对现有淡液蒸馏 系统进行改造，以达到最新环保要求。淡液蒸馏技术在纯碱生产行业有很好的应 用前景。 课题组可以提供成熟的淡液蒸馏工艺包。 经济效益预测： 淡液蒸馏可以回收纯碱生产工艺过程中需要的氨气和工艺用水，淡液蒸馏具 有一定的经济效益和社会效益。 35天津大学科技成果选编 技术成熟度:产业化项目 应用领域: 纯碱生产行业

成果与项目的背景及主要用途： 近几年来，我国地表水污染依然较重，七大水系总体为轻度污染，水体污染 事故时有发生。水质状况是由相关的指标参数来表明的，如ＣＯＤ、ＢＯＤ、氨 氮、总氮等等。对这些参数的检测国标法几乎都是化学方法，测量较准确，但耗 时长、所需化学试剂多、操作复杂、稳定性差，并可能带来二次污染问题。 技术原理与工艺流程简介：水质监测仪器框图如上图所示，由光路系统，开放流通池，光电接收／转换 系统，控制系统等四个模块组成。脉冲氙灯发出的光，经由步进电机带动的凹面 光栅分光系统组成的单色器装置，分离出来的单色光进入开放流通池，被吸收后 的光信号经光电二极管转化成相应的电信号，经过ＡＤ转换后再通过无线数据传 输传送到上位机进行实时显示、存储并处理。该仪器由上位机监控软件控制操作。 可测量光谱范围为 200~720nm。 跟传统的监测方式相比，由 24h 上传一次检测数据，转变为 5s 即可检测并 上传一次数据，检测周期短、速度快、成本低、无二次污染。 应用领域：河流、湖泊、污水处理厂等地的水质在线监测 合作方式及条件：具体面议