根据学校光电工程学院的专业设置，北京润尼尔网络科技有限公司提供如下全套虚拟仿真实验教学管理中心软件建设解决方案。主要包含集成电路原理演示模块、硅热氧化工艺模块、扩散工艺模块、硅片清洗工艺模块、湿法刻蚀工艺模块和集成电路芯片工艺模块。这些实验模块以培养集成电路人才为目标，由浅入深，覆盖基础型、专业型、特色创新型等不同层次与深度。 开放式网上材料光电材料工程虚拟实验室软件是以理论知识为指导，以计算机仿真技术、多媒体技术和网络技术为依托而建立的一种新型实验教学系统。它利用计算机模拟真实的实验环境，通过信息网络操作实验设备，为实验教学提供了一种全新的教学模式。虚拟实验利用计算机技术来实现各种虚拟实验环境，实验者以交互的方式进行实验操作，可以像在真实的环境中一样完成各种预定的实验项目，最大限度地模拟真实实验的场景,并提供与实际实验的操作方法相类似的实践体验。 本虚拟仿真实验教学课程主要包含以下典型实验： •    直拉法制备硅单晶虚拟仿真实验 •    区熔法单晶生长工艺虚拟仿真实验 •    物理气相传输晶体生长工艺虚拟仿真实验 •    粒子注入及退火工艺虚拟仿真实验 •    氧化增强扩散效应虚拟仿真实验 •    金属化工艺虚拟仿真实验 •    化学气相沉积工艺虚拟仿真实验 •    多形态光刻与刻蚀虚拟仿真实验 •    氧化硅薄膜制备虚拟仿真实验 •    扩散反应原理演示虚拟实验 •    有机物清洗原理演示虚拟实验 •    氧化反应原理演示虚拟实验 •    氮化硅刻蚀原理演示虚拟实验 •    硅各向同性刻蚀原理虚拟实验 •    硅各向异性刻蚀原理演示虚拟实验 •    金属离子清洗原理演示虚拟实验 •    铝刻蚀原理演示虚拟实验 •    颗粒清洗原理演示虚拟实验 •    局部场氧化虚拟虚拟实验 •    硼再扩散虚拟实验 •    硼预扩散虚拟实验 •    磷再扩散虚拟实验 •    磷预扩散虚拟实验 •    去胶清洗虚拟实验 •    工艺流程间清洗虚拟实验 •    炉前清洗虚拟实验 •    氧化硅刻蚀虚拟实验 •    氮化硅刻蚀虚拟实验 •    硅各向同性刻蚀虚拟实验 •    硅各向异性刻蚀虚拟实验 •    铝刻蚀虚拟虚拟实验 •    沟道效应虚拟实验 •    硅晶圆切片、研磨抛光工艺虚拟实验 •    发射区推进效应实验 本系统可满足以下主要性能指标： 1、为保证系统的交互性和扩展性，系统须采用国际领先的Unity3D引擎开发而成； 2、为保证系统的先进性，实验系统所使用的网页播放器插件须采用主流3D引擎插件，且插件在近1年内有更新版本，并可支持后续的优化升级； 3、系统提供VR互动的功能，在实验过程中，通过VR手柄交互，用户可以在场景中移动，增加用户的交互体验感； 4、系统与虚拟仿真实验教学管理平台软件无缝对接，教师端能够自动生成智能指导和自动批改规则，且教师能够对规则进行细节修改； 5、系统提供实验过程中的智能指导功能，该指导为启发性指导，通过一步步的提问式引导，进而启发学生思考； 6、系统提供实验结果的自动批改功能，学生实验结束且提交后，系统调用自动批改规则可以自动算出学生实验得分，教师端还可以查看得分细节，了解学生的得分细节； 7、系统服务器端用户分为学生、教师、教务管理员和系统管理员四种角色，不同角色拥有不同权限。 学生：选课、选择实验、开展实验、接受实验指导、在线提交实验报告、保存和提交实验结果、查询实验成绩和批语。 教师：典型实验库维护、发布实验、安排实验、批改实验报告、系统指导、统计并发布学生的实验成绩和批语。 教务管理员：课程计划、开课计划、选课日期设置、开课审核、开课查询。 系统管理员：用户管理、分组管理、角色管理、权限管理、系统维护等。 性能指标： 支持同时在线用户数1万人以上，经测试，系统运行稳定，不限终端用户数，完全能满足日常教学使用。 服务器运行环境 操作系统：WindowsServer，Linux/UnixServer Web服务器：Tomcat6.0，JDK6.0 数据库：MySQL 客户端运行环境 操作系统：AllWindows系列

产品详细介绍 供应北京/天津/上海/河北/湖北/青海/甘肃/宁夏/陕西/山西/河南/山东/辽宁/吉林/黑龙江/内蒙古/新疆/石家庄/济南/沈阳/哈尔滨/郑州/太原/武汉/兰州/银川/西宁/西安/大连 /昆山/苏州/大连/烟台/青岛/无锡/潍坊/南京/杭州/东莞/深圳/珠海三目偏光显微镜 GRME-POL2-TC（日本原装进口） 照    明：反射照明，透射照明，内藏式电源，6V20W卤素灯，亮度可调节。 焦距调节：同轴粗微调焦机构，调焦范围30mm,微动格值：0.002mm。 观察系统：三目镜筒，倾斜45°，瞳距调节范围54-74mm，视度可调。 检偏装置：0°-90°转动式偏装置。 聚 光 镜：NA1.25阿贝式聚光镜和滤色片。 转 换 器：4孔。 目    镜：WHE10X/18mm、WH15X。 物    镜：POL-M Plan5X、POL-M Plan 10X、POL-M Plan 40X、POH100X(Dry)。 综合倍率：50倍-1500倍。 圆型旋转载物台：直径150mm，360 °回转，任意位置可固定，刻度格值1°，游标格值6′。 生产研发销售批发     照明放大镜，TV放大镜，电视放大镜，PC放大镜，电脑放大镜，宝石放大镜，手术放大镜，大尺寸放大镜，放大镜灯，LED环形荧光灯，LED荧光灯，LED同轴光照明，UV照射灯，LEDUV照射灯照射装置，LEDUV固化炉，LED同轴点光源，零角度LED灯，显微镜光源；SMT设备，视觉检查装置，LED背光灯，外观检查显微镜，外观检查机装置，AOI，SMT设备维修，回流炉，对比检查软件，工业自动外观检查装置，贴片机，实装机，氮气发生器装置，PSA，制氮机器装置                                                                                                                                                            Microscope-GR01   :PC显微镜，TV显微镜，USB显微镜，电脑显微镜，内窥显微镜，工业显微镜，工厂显微镜，工业内窥镜，工业相机，电视显微镜，计算机显微镜，口腔显微镜，手术显微镜，医疗显微镜；  

产品详细介绍特点：传感器：微机械电容、充氮阻尼、密封封装内置温度传感器（用于输出温度补偿）全量程线性标定DC/AC 加速度响应可提供非标量程定制服务传感器已内置放大信号处理符合RoHS标准应用：地震监测 消费电子 机器人安全系统 冲撞测试 机械控制振动检测 模态分析 振动分析仪器仪表 车辆动态性能测试参数：传感器性能：（数据为8~32V供电，温度输出 25℃ 得出）性能 -002 -005 -010 -025 -050 -100 -200 单位输入量程 ±2 ±5 ±10 ±25 ±50 ±100 ±200 g频率响应（3dB） 0-400 0-600 0-1000 0-1500 0-2000 0-2500 0-3000 Hz灵敏度（差分输出） 2000 800 400 160 80 40 20 mV/g输出噪声（差分模式，典型值） 12 14 15 38 75 150 300 μg/root HZ可承受最大冲击（0.1ms） 2000 g传感器性能：（除注明外，数据为8~32V供电，温度输出 25℃ ，差分模式得出）性能参数 最小值 典型值 最大值 单位横轴灵敏度 2 3 %偏置标定误差 -002   4 满量程的% -005~-200   1.5 偏置温漂TC=-55~125℃ -002 100 200 PPM%满量程/℃ -005~-400 50 100 标定误差比例因子 1 2 %温漂比例因子TC=-55~125℃ -150     +150 Ppm/ ℃非线性（±90%满量程） -002~-050 0.15 0.5 满量程的% -100 0.25 1.00 -200 0.4 1.5 电源抑制比 65 DB输出阻抗 1 欧姆供电电压 8 32 V功耗 27 30 mA质量  21 克

产品详细介绍Shining3D-Metric摄影测量系统-三维摄影测量    先临三维自主研发的Shining3D-Metric 摄影测量系统，性能指标达到国际同类产品水平，是大范围三维测量的必备工具，可对中型或大型工件（几米甚至几十米）的快速三维测量和检测；特性 1、快速三维测量与检测-  Shining3D-Metric 摄影测量系统能快速计算出工件表面标志点的精确三维空间坐标，形成一个全局坐标系统，既可与CAD模型进行误差比对，实现大型工件快速三维检测；2、测量结果精确-  控制全局精度，搭配各种三维扫描仪使用，可进一步降低拼接的累计误差；产品规格（Shining3D-Metric摄影测量系统）产品型号 Shining3D-Metric-N     三维测量精度 ≤0.10mm/3m                       测量范围 0.1×0.1×0.1~10×10×10m3          工作环境 -20°~100°C 参考标准 VDI 2634/1 相机标定方式 自标定 匹配方式 编码点全自动匹配 数据传输方式 闪存卡或无线传输 相机规格 单反相机，28mm镜头，≥1200万像素 拼接方式 标志点全自动拼接，手动选点拼接 产品型号   Shining3D-Metric-H 三维测量精度  ≤0.10mm/4m 测量范围   0.1×0.1×0.1~50×50×50m3 工作环境 -20°~100°C 参考标准 VDI 2634/1 相机标定方式 自标定 匹配方式 编码点全自动匹配 数据传输方式 闪存卡或无线传输 相机规格 单反相机，28mm镜头，≥1200万像素 拼接方式 标志点全自动拼接，手动选点拼接 更多三维摄影测量系统，可见：http://www.shining3dscanner.cn/zh-cn/product_3dmetric.html

掺铝氧化锌薄膜（ AZO ）成本低廉、无毒环保，溶胶凝胶法制备 AZO 薄膜具有工艺简单、成膜均匀性好、易于精确掺杂等优点，而后续处理工艺则是提高溶胶凝胶法制备的透明导电薄膜性能的关键。为此我们研究 105  到  10-4 Pa 大真空度范围退火条件下的电阻率变化规律，发现：电阻率的降低集中在相对狭窄的真空度范围，其中在 100 Pa  到 10 Pa  之间，电阻率陡降了 2 个数量级。电阻率在 10 Pa  退火时达到最小值，继续提高真空度（减低气压），电阻率不再继续降低。这一研究结果不仅澄清了以往对溶胶 - 凝胶法制备透明薄膜后续工艺处理的模糊认识，而且对实际生产工艺具有重要的指导意义，例如以此为根据，选择合适的真空度退火，达到既满足产品的性能指标，又能节能减排的最佳效果。 XRD 与 XPS  的分析表明中真空下氧空位、锌填隙、以及 Al3+  对 Zn2+  离子的取代是中真空度下电阻率陡降的主要原因。此外，利用  Ar+ 离子对退火后的样品进行反溅射清洗，能进一步提高电导率。更重要的是能在薄膜表面形成具有一定的凹凸起伏的绒面结构，能将入射太阳光分散到各个角度。用作太阳能电池电极时，能有效增强太阳能电池内的光吸收材料对入射太阳光的捕获，提高光能利用率。

电感耦合等离子体化学气相沉积招标项目的潜在投标人应在北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼1601室获取招标文件，并于2022年07月11日14点00分（北京时间）前递交投标文件。

中国地质大学（武汉）“串联电感耦合等离子体质谱仪”竞争性磋商

本实用新型提供了一种LED紫外耦合等离子体的果蔬气调保鲜库，由果蔬保鲜库、温度湿度传感器、总控、制冷机组、冷风机、等离子体发生装置、LED紫外光源、等离子体发射器、鼓风机、气体输送管路、搁物架、气调装置组成。LED紫外光源设置成阵列式，可进行紫外杀菌处理，等离子体发射器通过功率调节按钮、时间调节按钮、启动按钮实现对气体的等离子处理，结合制冷机组、气调装置等实现对果蔬保鲜库的紫外耦合等离子气调处理。本实用新型气调库结构简单，操作方便，不仅能高效、快速地杀灭微生物，降解乙烯含量，而且能降解果蔬农药残留，诱导果蔬气孔缩小，抑制果蔬的生理代谢，且保持果蔬原有的色、香、味及营养成分，增加果蔬的贮藏期。

本实用新型提供了一种黄曲霉毒素的重力沉降式等离子体降解装置，所述黄曲霉毒素的重力沉降式等离子体降解装置设有等离子发射器、等离子体发生器、传送带装置、控制面板。本实用新型提供一种黄曲霉毒素的重力沉降式等离子体降解装置，主要用于粮食表面黄曲霉毒素的降解，它是利用物料的重力，在等离子发生器两个极板之间，自由落体，减少动力消耗。当物料到达两个极板下部时，完成物料中黄曲霉毒素的降解。该装置可以快速连续化地降解每颗粮食表面的黄曲霉毒素，降解过程低温、无溶剂残留，无环境污染，低能耗，且处理后的物料保持原有的色香味及营养品质。

本发明涉及双膦酸盐类药物的离子色谱分离分析方法，特别涉及等度分离积分脉冲安培检测分析的双膦酸盐类药物的离子色谱分离积分脉冲安培检测分析方法，包括实际样品处理、基线测绘、进样和离子交换、洗脱、电化学检测分析步骤；本发明对双膦酸盐药物能进行良好的分离分析，保留时间、峰高、峰面积的相对标准偏差均小于2.0％，工艺流程大为简化，本方法还可用于血液样品中的双膦酸盐药物含量的检测。